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去離子水清洗增壓泵

WAFER去離子水清洗增壓泵

DIW Cleaning Pumps For Wafer

  • 半導體行業專用；
  • 氣動增壓，單向單作用，或雙向雙作用；
  • 適用介質：NMP/DIW等（具體介質請電詢）
  • 最高壓力可達35MPa；
  • 高可靠性，長壽命，經多家fab廠現場驗證；
  • 嚴格的質量控制，出廠100%壓力試驗。