用于晶圓二氧化碳雪花洗，清洗力柔和，不損傷表面

用于水導激光恒壓供水，PLC自動控制，最高壓力達60MPa。

半導體晶圓超臨界二氧化碳清洗模塊，集成表閥等控制元件

半導體晶圓化學品清洗模塊，集成表閥等控制元件

半導體晶圓DIW清洗模塊，集成表閥等控制元件

半導體專用化學清洗增壓泵，適用于半導體晶圓化學清洗或除膠，有50和37.5兩種比例

半導體專用，去離子水清洗增壓泵，適用于半導體晶圓去離子水清洗，嚴格的pa控制，多種比例可選

提供半導體晶圓清洗用增壓泵的專業維修服務